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刻蚀工艺
刻蚀目的
将硅片边缘的带有的磷去除干净，避免 PN 结短路造成并联电阻降低。
刻蚀原理
采用干法刻蚀。采用高频辉光放电反应， 采用高频辉光放电反应，使反应气体激活成活性粒子，如原子或各种游离基，这些活性粒子扩散到硅片边缘，在那里与硅进行反应，形成挥发性生成物四氟化硅而被去除。
化学公式： CF 4 +SIO 2 =SIF 4 +CO 2
工艺流程
预抽，主抽，送气，辉光，抽空，清洗，预抽，主抽 ，充气。
影响因素
1. 射频功率
射频功率过高：等离子体中离子的能量较高会对硅片边缘造成较大的轰击损伤，导致边缘区域的电性能差从而使电池的性能下降。在结区（耗尽层）造成的损伤会使得结区复合增加。
射频功率太低：会使等离子体不稳定和分布不均匀，从而使某些区域刻蚀过度而某些区域刻蚀不足，导致并联电阻下降。
2. 时间
刻蚀时间过长：刻蚀时间越长对电池片的正反面造成损伤影响越大，时间长到一定程度损伤不可避免会延伸到正面结区，从而导致损伤区域高复合。
刻蚀时间过短：刻蚀不充分，没有把边缘鳞去干净，张掖太阳能组件， PN 结依然有可能短路造成并联电阻降低。
4. 压力
压力越大，气体含量越少，参与反应的气体也越多，刻蚀也越充份。
电池片各工序影响因素及异常情况
电池片各工艺流程危害要素及异常现象
4.NaOH产生金字塔式绒面。NaOH浓度值越高，金字塔式容积越小，反映前期，金字塔式成核相对密度类似没受NaOH浓度值危害，碱水溶液的腐蚀随NaOH浓度值转变比较显著，浓度值高的NaOH水溶液与硅体现的速率加速，再反映过段时间后，金字塔式容积更大。NaOH浓度值超出必须界线时，各向异性系数缩小，绒面会愈来愈差，类似打磨抛光。可控性水平：与IPA相近，线性度不高。
5.Na2SiO3SI和NaOH反映生产制造的Na2SiO3和添加的Na2SiO3能具有缓冲剂的功效，使反映不会很强烈，变的轻缓。Na2SiO3使反映拥有大量的起始点，生长发育出的金字塔式更匀称，更小一点儿Na2SiO3多的那时候要立即的排出去，Na2SiO3传热性差，会危害反映，水溶液的黏稠度也提升，非常容易产生水流、花蓝印和表层黑斑。可控性水平：没办法操纵。4酸洗钝化HCL除去硅片表层的金属材料残渣硫酸具备酸和络合剂的双向功效，硫酸盐能与多种多样金属材料正离子产生可溶解与水的络合物。6酸洗钝化HF除去硅片表层空气氧化层，SiO26HF=H2[siF6]2H2O。
基准点1．减薄量界定：硅片制绒前后左右的前后左右净重差。操纵范畴多晶硅125，硅片薄厚在200±25μm左右，减薄量在0.5±0.2g；硅片薄厚在200±25μm左右，减薄量在0.4±0.2g。多晶硅156，首篮减薄量在0.7±0.2g；之后减薄量在0.6±0.2g。2．绒面分辨规范：成核相对密度高，尺寸适度，匀称。
操纵范畴：多晶硅：金字塔式规格3~10um。3．外型无豁口，黑斑，回收抵债太阳能组件，裂痕，激光切割线，刮痕，凹痕，有没有白斑病，赃污。
振鑫焱光伏科技有限责任公司长期购置：天价回收硅片，电池片，初中级光伏电池，银浆布，单晶硅，光伏电池，太阳能电池板，太阳能组件，太阳能光伏板，顾客撤离，退级，库存量，El，欠佳检测，二手，旧工程项目，拆装，道路路灯，拆卸发电厂，拆装，人造板，聚酰薄膜，无界限结晶硅，光伏电池，单晶硅，试验板，负债还款，返修，太阳能发电控制模块收购等。电池片生产流程一、制绒a.目地在硅单晶的表面产生坑凹状表面，降低电池片的反射的自然光，提升二次反射的总面积。一般状况下，用碱解决是以便获得金字塔状磨砂皮；用酸处理是以便获得虫孔状磨砂皮。无论是哪样磨砂皮，都能够提升硅单晶的陷光功效。b.步骤1.基本标准下，回收单晶硅太阳能组件，硅与单纯性的HF、HNO3（硅表面会被钝化处理，二氧化硅与HNO3不反映）觉得不是反映的。但在二种混和酸的管理体系中，硅则能够与水溶液开展不断的反映。硅的氧化氰化钠/亚硝酸（HNO2）将硅氧化成二氧化硅（关键是亚硝酸将硅氧化）Si 4HNO3=SiO2 4NO2 2H2O(慢反映3Si 4HNO3=3Si
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